发明名称 |
拡散冷却方式ガスレーザ装置および拡散冷却方式ガスレーザ装置での放電分布の調整方法 |
摘要 |
拡散冷却方式ガスレーザ装置(1)であって、当該ガスレーザ装置(1)は、第1の電極(2)と、第2の電極(5)と、当該第1の電極(2)と第2の電極(5)との間に配置されている放電ギャップ(4)とを有しており、前記2つの電極のうちの少なくとも1つの電極(5)上の、放電ギャップ側に、誘電体(13)が配置されているガスレーザ装置において、前記放電ギャップ(4)内の放電分布に影響を与える、当該誘電体(13)の誘電厚d/εresは、前記誘電体(13)が上部に配置されている前記電極(5)の少なくとも1つのディメンジョンに沿って変化し、ここで、dは前記誘電体(13)の厚みであり、εresは前記誘電体(13)の、結果として生じる誘電率であり、前記誘電体の最も厚い箇所の厚さは少なくとも1mmである、または、電極の長さの100分の1を上回る、または、入力されるべき高周波電力の周波数によって決まる波長の1000分の1を上回る。 |
申请公布号 |
JP2016502764(A) |
申请公布日期 |
2016.01.28 |
申请号 |
JP20150545694 |
申请日期 |
2013.12.05 |
申请人 |
トルンプフ レーザー− ウント ジュステームテヒニク ゲゼルシャフトミット ベシュレンクテル ハフツングTRUMPF Laser− und Systemtechnik GmbH |
发明人 |
マークス シュヴァント;シュテファン クヌプファー;ゲロルト マール |
分类号 |
H01S3/038 |
主分类号 |
H01S3/038 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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