发明名称 |
高アスペクト比及び大きい横方向寸法の構造体のための計測システム及び方法 |
摘要 |
高アスペクト比及び大きい横方向寸法の構造体のための種々の計測システム及び方法が提供される。1つの方法は、ウェーハ上に形成された1つ以上の構造体に光を誘導することを含む。光は、紫外光、可視光、及び赤外光を含む。1つ以上の構造体は、少なくとも1つの高アスペクト比の構造体又は少なくとも1つの大きい横方向寸法の構造体を含む。方法はまた、1つ以上の構造体に誘導された光に起因する1つ以上の構造体からの光に対応する出力を生成することを含む。加えて、方法は、出力を用いて1つ以上の構造体の1つ以上の特徴を判定することを含む。 |
申请公布号 |
JP2016502755(A) |
申请公布日期 |
2016.01.28 |
申请号 |
JP20150539809 |
申请日期 |
2013.10.24 |
申请人 |
ケーエルエー−テンカー コーポレイション |
发明人 |
ズィウラ サディアス ジェラード;リウ シエフォン;ワン デイビッド ワイ;マドセン ジョン;クズネツォフ アレクサンダー;デ ヴェーラ ヨハンネス ディー;クリシュナン シャンカー;ショーネシー デリック;シェグローフ アンドレイ |
分类号 |
H01L21/66;G01B11/02;G01B11/06;G01N21/01;G01N21/21 |
主分类号 |
H01L21/66 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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