ショットキーダイオード及びショットキーダイオードの製造方法

摘要

本開示は、ドリフト層及びショットキー層を有するショットキーダイオードに関する。ドリフト層は、第１の導電型のドーピング材料によってドープされ、活性領域と関連付けられる第１の表面を有する。ショットキー層は、ショットキー接合を形成するために第１の表面の活性領域の上方に設けられる。第２の導電型の複数の接合バリア要素は、ショットキー接合の下方でドリフト層に形成され、第２の導電型の複数のインプラントも、ショットキー接合の下方でドリフト層に形成される。ある実施形態では、少なくとも１つのインプラントは、接合バリア要素のそれぞれの隣接する対の間に設けられる。