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经营范围
发明名称
高周波加熱装置
摘要
本発明の高周波加熱装置は、少なくとも一つの高周波電力発生部120と、直交変調部131、高周波電力増幅部132、とを備えた少なくとも一つの高周波電力ユニット130と、放射部140と、変調信号生成部150と、制御部110とを備え、制御部110は、周波数と位相の情報を個々に含む複数のサブキャリア情報を変調信号生成部150に供給し、同相変調信号および直交変調信号を生成して、直交変調部131で直交変調し、複数のサブキャリア波を出力する。
申请公布号
JPWO2013183200(A1)
申请公布日期
2016.01.28
申请号
JP20140519802
申请日期
2013.02.28
申请人
パナソニックIPマネジメント株式会社
发明人
岡島 利幸
分类号
H05B6/70;H05B6/64;H05B6/66;H05B6/68
主分类号
H05B6/70
代理机构
代理人
主权项
地址
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