一种光学元件化学湿法清洗后的干燥装置和工艺

摘要

本发明公开了一种光学元件化学湿法清洗后的干燥装置和工艺，该装置由干燥槽、鼓风机、空气加热器、空气高效过滤器和洁净气体屏蔽静电消除器等部分组成，通过加热高效过滤的超洁净循环空气，对湿法清洗后的光学元件进行干燥，利用洁净气体屏蔽静电消除器产生的离子消除元件表面静电，保持元件表面在干燥的过程中不吸附微粒，有效避免干燥过程中的二次污染，克服了以往装置的不足。基于此装置，开发了一套完整的光学元件清洗后的干燥工艺，经试验证明，该基于此装置的干燥工艺干燥效果好，有效防止了表面残留液体自行干燥的印迹，能够实现光学元件的超洁净清洗干燥。

主权项

一种光学元件化学湿法清洗后的干燥装置，由干燥槽、鼓风机、空气加热器、空气高效过滤器和洁净气体屏蔽静电消除器组成，其特征在于：干燥槽内设置洁净气体屏蔽静电消除器，干燥槽的循环空气出口对准鼓风机的循环空气进口，鼓风机的循环空气出口对准空气加热器的循环空气进口，空气加热器的循环空气出口对准干燥槽的循环空气进口，构成空气循环回路；鼓风机、空气加热器和洁净气体屏蔽静电消除器分别连接控制器；干燥槽上设有可开闭的盖子；通过加热空气循环回路上经过超过滤的洁净空气，对湿法清洗工艺中脱水后的光学元件进行干燥，利用洁净气体屏蔽静电消除器产生的离子消除元件表面静电，保持元件表面在干燥的过程中不吸附微粒，避免干燥过程的二次污染；控制循环空气温度为室温～65℃，调节精度0.2℃,循环空气出口风速为3m/s～35m/s。