| 发明名称 | 蚀刻液组合物及使用其制造液晶显示器用阵列基板的方法 | ||
| 摘要 | 本文所公开的是一种蚀刻液组合物，包含：金属层氧化剂、氟化合物、螯合剂和余量的水，其中，该螯合剂包含特定的重复单元，并且，基于1g的蚀刻液组合物，螯合剂中包含的重复单元的量为0.6mmol至2mmol；以及一种使用该组合物制造液晶显示器用阵列基板的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN105274525A | 申请公布日期 | 2016.01.27 |
| 申请号 | CN201510342163.2 | 申请日期 | 2015.06.18 |
| 申请人 | 东友精细化工有限公司 | 发明人 | 崔汉永;金炫佑;田玹守;赵成培;金相泰 |
| 分类号 | C23F1/14(2006.01)I;C23F1/16(2006.01)I;G02F1/1362(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 徐川;姚开丽 |
| 主权项 | 一种蚀刻液组合物，包含：金属层氧化剂、氟化合物、螯合剂和余量的水，其中，所述螯合剂包含下面化学式1的化合物，并且，基于1g的所述蚀刻液组合物，所述螯合剂中包含的化学式1的量为0.6mmol至2mmol：[化学式1]<img file="FDA0000740910480000011.GIF" wi="741" he="150" />其中，l、m和n各自独立地为0至2的整数；l、m和n不都为0；X、Y和Z各自独立地为O、N或S；并且A和B各自独立地为CH<sub>2</sub>或C＝O。 | ||
| 地址 | 韩国全罗北道 | ||