一种金刚石膜抛光装置

摘要

本发明公开了一种金刚石膜抛光装置，包括封闭的容器，所述容器下端设有支撑腿支撑于地面，容器侧面设有水冷装置，所述的水冷装置前端部插入容器内，所述的水冷装置前端设有铝板制成的阴极，阴极连接直流电源，阴极外侧设有绝缘层，在阴极对面设有托架，金刚石膜设置于托架上，所述的托架上还连接电热偶，形成电子束，所述的容器下端设有气泵，气泵连接气源，气源为氧气和氢气。本发明采用离子体通过阴极表面时将产生弯曲，使之在工件与阴极之间产生半聚焦的电子束，同时容器保持一定的真空度，电子束辅助等离子体加工可用于处理最小厚度仅为5μm的极薄金刚石膜，加工速度约为10～40nm/min。

主权项

一种金刚石膜抛光装置，包括封闭的容器，所述容器下端设有支撑腿支撑于地面，其特征在于：所述的容器侧面设有水冷装置，所述的水冷装置前端部插入容器内，所述的水冷装置前端设有铝板制成的阴极，阴极连接直流电源，阴极外侧设有绝缘层，在阴极对面设有托架，金刚石膜设置于托架上，所述的托架上还连接电热偶，形成电子束，所述的容器下端设有气泵，气泵连接气源，气源为氧气和氢气。