发明名称 半导体功率开关和用于制造半导体功率开关的方法
摘要 本发明涉及一种半导体功率开关(100),其具有载体衬底(110)和施加在载体衬底(110)上的由第一半导体材料构成的第一半导体层(130)。该半导体功率开关(100)此外包括施加在第一半导体层(130)上的由第二半导体材料构成的第二半导体层(135),其中第一半导体材料的带间距与第二半导体材料的带间距不同。该半导体功率开关(100)还包括漏端子(145)和源端子(150),所述漏端子和源端子至少被嵌入在第二半导体层(135)中,其中借助所述漏端子(145)和源端子(150)至少能够电接触第一和第二半导体材料之间的分界层(140)。该半导体功率开关(100)此外包括漏端子(145)和源端子(150)之间的沟道区域(155),其中构造所述沟道区域(155),以便用作电功率开关。最后,该半导体功率开关(100)包括栅端子(170),其至少部分地覆盖沟道区域(155)。
申请公布号 CN105283960A 申请公布日期 2016.01.27
申请号 CN201480034527.4 申请日期 2014.06.06
申请人 罗伯特·博世有限公司 发明人 W.达韦斯
分类号 H01L29/778(2006.01)I;H01L29/792(2006.01)I;H01L29/51(2006.01)I;H01L29/40(2006.01)I;H01L21/3105(2006.01)I;H01L21/3115(2006.01)I;H01L29/30(2006.01)I 主分类号 H01L29/778(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 卢江;杜荔南
主权项 具有以下特征的半导体功率开关(100):-载体衬底(110);-施加在载体衬底(110)上的由第一半导体材料构成的第一半导体层(130);-施加在第一半导体层(130)上的由第二半导体材料构成的第二半导体层(135),其中第一半导体材料的带间距与第二半导体材料的带间距不同;-漏端子(145)和源端子(150),所述漏端子(145)和源端子(150)至少被嵌入在第二半导体层(135)中,其中借助所述漏端子(145)和源端子(150)至少能够电接触第一和第二半导体材料之间的分界层(140);-漏端子(145)和源端子(150)之间的沟道区域(155),其中构造所述沟道区域(155),以便用作电功率开关;以及-栅端子(170),其至少部分地覆盖沟道区域(155)。
地址 德国斯图加特