发明名称 |
积层体 |
摘要 |
本发明提供了一种基膜、一种积层体以及一种形成偏光膜的方法。具体而言,本发明提供了一种可以有效地形成偏光膜的基膜、一种积层体以及一种形成偏光膜的方法,所述偏光膜的厚度为约10μm以下、约8μm以下、约7μm以下、约6μm以下或约5μm以下,并展现出优异的功能,例如偏光性能。因此,可以通过防止延伸处理中的撕裂或卷曲以及容易地延伸偏光材料例如聚乙烯醇类树脂而形成偏光膜。 |
申请公布号 |
CN105283785A |
申请公布日期 |
2016.01.27 |
申请号 |
CN201480033304.6 |
申请日期 |
2014.06.19 |
申请人 |
LG化学株式会社 |
发明人 |
梁世雨;南星铉;黄闰泰;郑棕炫;张锡基;罗钧日 |
分类号 |
G02B5/30(2006.01)I;B32B27/08(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 |
北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 |
代理人 |
李静;黄丽娟 |
主权项 |
一种积层体,包含:基膜;和层叠在所述基膜的一个或两个表面上的偏光材料层;其中,所述基膜与所述偏光材料层的伸长率的差的绝对值在15%至500%的范围内。 |
地址 |
韩国首尔 |