发明名称 |
涡旋散射稀释器及暴露设备 |
摘要 |
本实用新型公开了一种涡旋散射稀释器及暴露设备。本实用新型的涡旋散射稀释器,包括稀释器本体。稀释器本体上开设有:第一气体通道,其横截面为圆形,且具有进气段、中间段和出气段;和第二气体通道,其横截面的面积小于第一气体通道的中间段的横截面的面积,且与第一气体通道的中间段垂直相切的连通。此外,本实用新型提供了一种暴露设备。本实用新型的涡旋散射稀释器中因为第二气体通道与第一气体通道垂直相切的连通,可高速空气沿着第一气体通道的周壁进入第一气体通道,与气溶胶)垂直相切的混合,且沿着第一气体通道的周壁螺旋地向涡旋散射稀释器的出口流动,使空气和气溶胶的混合更加均匀,稀释后的气溶胶的浓度一致、稳定。 |
申请公布号 |
CN204996345U |
申请公布日期 |
2016.01.27 |
申请号 |
CN201520512859.0 |
申请日期 |
2015.07.16 |
申请人 |
北京慧荣和科技有限公司 |
发明人 |
郑劲林;刘玉杰;王超 |
分类号 |
B01F5/00(2006.01)I;A61D7/00(2006.01)I |
主分类号 |
B01F5/00(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种涡旋散射稀释器,包括稀释器本体,其特征在于,所述稀释器本体上开设有:第一气体通道,其横截面为圆形,且具有进气段、中间段和出气段;和第二气体通道,其横截面的面积小于所述第一气体通道的中间段的横截面的面积,且与所述第一气体通道的中间段垂直相切的连通,以使所述第二气体通道内的气体沿着所述第一气体通道的周壁进入所述第一气体通道。 |
地址 |
101102 北京市丰台区富锦嘉园2区3号楼2单元604 |