发明名称 Method for producing nano patterned structure and method and apparatus for producing anti-reflective film
摘要 본 발명은 반사 방지를 위한 나노 구조물의 구현 방법 및 우수한 반사 방지 특성을 보이는 나노 구조를 갖는 반사 방지 필름의 제조방법에 관한 것으로, 기판 상에 수십 nm 두께의 얇은 금속 박막을 형성하는 단계, 상기 형성된 금속 박막을 열처리하여 나노 크기의 나노 도메인(domain)으로 성장되도록 소결시키는 단계, 상기 기판의 표면에 가시광 파장 이하의 주기를 갖는 나노 구조가 형성되도록 상기 금속 구조물을 식각 마스크로 이용하여 상기 기판을 식각하는 단계, 그리고 이러한 나노 구조를 투명 필름 기재에 임프린팅 공정을 통해 나노 구조를 복제하여 필름 상에 반사 방지 구조를 제조하는 공정을 포함함으로써, 짧은 공정 시간으로 필름과 공기 사이의 경계에서 일어나는 빛의 반사를 최소화할 수 있는 무반사 나노구조를 제작하고, 이를 디스플레이 소자에 적용하여 우수한 시인성을 확보할 수 있다. 또한 연속 공정이 가능한 롤 투 롤(roll to roll) 임프린트 공정을 통해 저비용으로 우수한 반사 방지 특성을 갖는 필름을 대량 생산할 수 있는 효과가 있다.
申请公布号 KR101589348(B1) 申请公布日期 2016.01.27
申请号 KR20130091768 申请日期 2013.08.01
申请人 주식회사 엘지화학 发明人 박정호;이종병;신부건;김재진
分类号 C23C14/34;C23C26/00;C23F1/02 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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