| 摘要 |
본 발명은 균일한 플라즈마 분포를 가지는 기판처리장치에 관한 것으로, 기판처리장치는 반응공간을 제공하고, 제 1 측면과 상기 제 1 측면과 대향하는 제 2 측면을 가지는 챔버; 상기 제 1 측면에 연결된 모듈; 상기 반응공간에 위치하는 상부전극; 상기 상부전극과 대향하고 기판이 안치되는 기판 안치대; 상기 기판의 중앙에 위치한 제 1 지점으로부터 상기 제 1 측면의 방향으로 이격된 제 2 지점과 대응되는 상기 상부전극에 연결되고 RF 전원을 인가하기 위한 피딩 라인;을 포함하는 것을 특징으로 한다. |
