发明名称 MEMS加速度传感器的硅盖帽结构
摘要 本发明公开了一种MEMS加速度传感器的硅盖帽结构。所述硅盖帽结构包括一顶部、一与所述顶部相垂直的垂直支撑部,所述顶部与所述垂直支撑部构成一用于容置MEMS元器件的半封闭腔体,在所述半封闭腔体的开口端且在所述垂直支撑部的底面上设有一沿所述底面的周向向内和向外延伸的扩展接触部,所述扩展接触部与所述垂直支撑部构成一半工字形的结构。本发明的硅盖帽增大了硅盖帽与金属合金的接触面积,从而增大了键合面积,进一步增强了键合强度;对于硅盖帽与金属合金接触部分,本发明采用了半工字的硅盖帽垂直支撑脚结构,提高了其机械强度,从而使本发明既能满足机械强度的要求又能满足键合强度要求。
申请公布号 CN105277733A 申请公布日期 2016.01.27
申请号 CN201410300621.1 申请日期 2014.06.27
申请人 广芯电子技术(上海)有限公司 发明人 戴忠伟
分类号 G01P1/00(2006.01)I;G01P15/00(2006.01)I;B81B7/00(2006.01)I 主分类号 G01P1/00(2006.01)I
代理机构 上海弼兴律师事务所 31283 代理人 胡美强;杨东明
主权项 一种MEMS加速度传感器的硅盖帽结构,其特征在于,其包括一顶部、一与所述顶部相垂直的垂直支撑部,所述顶部与所述垂直支撑部构成一用于容置MEMS元器件的半封闭腔体,在所述半封闭腔体的开口端且在所述垂直支撑部的底面上设有一沿所述底面的周向向内和向外延伸的扩展接触部,所述扩展接触部与所述垂直支撑部构成一半工字形的结构。
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