发明名称 |
电致变色玻璃、中空玻璃及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种电致变色玻璃、中空玻璃及其制备方法。电致变色玻璃包括基片,该电致变色玻璃还包含依次形成于该基片上的离子阻挡层、底部透明导电层、电致变色层、第一锂离子导体层、辅助电极层、第二锂离子导体层、顶部透明导电层和保护层。本发明还提供一种电致变色玻璃的制备方法,以及中空玻璃及其制备方法。本发明解决了现有工艺中良品率不高、无法完全释放产能的问题。 |
申请公布号 |
CN103353700B |
申请公布日期 |
2016.01.27 |
申请号 |
CN201310257040.X |
申请日期 |
2013.06.25 |
申请人 |
中国南玻集团股份有限公司 |
发明人 |
崔平生;唐晶 |
分类号 |
G02F1/153(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/153(2006.01)I |
代理机构 |
深圳冠华专利事务所(普通合伙) 44267 |
代理人 |
夏声平 |
主权项 |
一种电致变色玻璃,其包括基片,其特征在于:该电致变色玻璃还包含依次形成于该基片上的离子阻挡层、底部透明导电层、电致变色层、第一锂离子导体层、辅助电极层、第二锂离子导体层、顶部透明导电层和保护层;其中,该离子阻挡层为SiO<sub>x</sub>,厚度为5~100nm;该底部透明导电层为AZO,厚度为50~850nm;该电致变色层为WO<sub>3</sub>,厚度为200~800nm;该第一锂离子导体层为LiWO<sub>x</sub>,厚度为5~250nm;该辅助电极层为NiV<sub>x</sub>O<sub>y</sub>,厚度为100~500nm;该第二锂离子导体层为LiNi<sub>x</sub>V<sub>y</sub>O<sub>z</sub>,厚度为5~250nm;该顶部透明导电层为AZO,厚度为50~850nm;保护层为SiO<sub>x</sub>或者SiN<sub>x</sub>,厚度为5~100nm;并且该第一锂离子导体层LiWO<sub>x</sub>是在锂化WO<sub>3</sub>的过程中自行形成的。 |
地址 |
518067 广东省深圳市南山区蛇口工业六路一号南玻大厦 |