发明名称 半导体装置
摘要 实施方式的半导体装置具有第2导电型的第1半导体区域、第1导电型的第2半导体区域、第2导电型的第3半导体区域、第1导电型的第5半导体区域、栅极电极、以及第2导电型的第4半导体区域。栅极电极在与从第3半导体区域朝向第2半导体区域的第3方向正交的第1方向上,隔着第1绝缘区域而与第3半导体区域相邻的部分的长度比隔着第1绝缘区域而与第5半导体区域相邻的部分的长度长。第4半导体区域具有比第3半导体区域中的位于第4半导体区域与第5半导体区域之间的部分的第2导电型的载流子密度高的第2导电型的载流子密度。第4半导体区域相对于第1绝缘区域的第1方向侧的端部设置在第1方向侧。
申请公布号 CN105280693A 申请公布日期 2016.01.27
申请号 CN201510096984.2 申请日期 2015.03.04
申请人 株式会社东芝 发明人 押野雄一;小仓常雄
分类号 H01L29/739(2006.01)I 主分类号 H01L29/739(2006.01)I
代理机构 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人 张世俊
主权项 一种半导体装置,其特征在于包括:第2导电型的第1半导体区域;第1导电型的第2半导体区域,设置在所述第1半导体区域上;第2导电型的第3半导体区域,设置在所述第2半导体区域上;第1导电型的第5半导体区域,选择性地设置在所述第3半导体区域上;栅极电极,隔着与所述第5半导体区域相接的第1绝缘区域而设置在所述第3半导体区域内,在与从所述第3半导体区域朝向所述第2半导体区域的第3方向正交的第1方向上,隔着所述第1绝缘区域而与所述第3半导体区域相邻的部分的长度比隔着所述第1绝缘区域而与所述第5半导体区域相邻的部分的长度长;以及第2导电型的第4半导体区域,选择性地设置在所述第3半导体区域上,具有比所述第3半导体区域中的位于与所述第5半导体区域之间的部分的第2导电型的载流子密度高的第2导电型的载流子密度,且相对于所述第1绝缘区域的所述第1方向侧的端部设置在所述第1方向侧。
地址 日本东京