发明名称 | 半导体装置 | ||
摘要 | 实施方式的半导体装置具有第2导电型的第1半导体区域、第1导电型的第2半导体区域、第2导电型的第3半导体区域、第1导电型的第5半导体区域、栅极电极、以及第2导电型的第4半导体区域。栅极电极在与从第3半导体区域朝向第2半导体区域的第3方向正交的第1方向上,隔着第1绝缘区域而与第3半导体区域相邻的部分的长度比隔着第1绝缘区域而与第5半导体区域相邻的部分的长度长。第4半导体区域具有比第3半导体区域中的位于第4半导体区域与第5半导体区域之间的部分的第2导电型的载流子密度高的第2导电型的载流子密度。第4半导体区域相对于第1绝缘区域的第1方向侧的端部设置在第1方向侧。 | ||
申请公布号 | CN105280693A | 申请公布日期 | 2016.01.27 |
申请号 | CN201510096984.2 | 申请日期 | 2015.03.04 |
申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 押野雄一;小仓常雄 |
分类号 | H01L29/739(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/739(2006.01)I |
代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 张世俊 |
主权项 | 一种半导体装置,其特征在于包括:第2导电型的第1半导体区域;第1导电型的第2半导体区域,设置在所述第1半导体区域上;第2导电型的第3半导体区域,设置在所述第2半导体区域上;第1导电型的第5半导体区域,选择性地设置在所述第3半导体区域上;栅极电极,隔着与所述第5半导体区域相接的第1绝缘区域而设置在所述第3半导体区域内,在与从所述第3半导体区域朝向所述第2半导体区域的第3方向正交的第1方向上,隔着所述第1绝缘区域而与所述第3半导体区域相邻的部分的长度比隔着所述第1绝缘区域而与所述第5半导体区域相邻的部分的长度长;以及第2导电型的第4半导体区域,选择性地设置在所述第3半导体区域上,具有比所述第3半导体区域中的位于与所述第5半导体区域之间的部分的第2导电型的载流子密度高的第2导电型的载流子密度,且相对于所述第1绝缘区域的所述第1方向侧的端部设置在所述第1方向侧。 | ||
地址 | 日本东京 |