一种适合多层膜电路制作的镍光刻腐蚀液配方及腐蚀方法

摘要

一种适合多层膜电路制作的镍光刻腐蚀液配方及腐蚀方法，配方包括氢氟酸、硝酸和去离子水；各组成部分的体积比如下：氢氟酸：硝酸：去离子水＝(0.8-1.2)：(2.5-3.5)：2。利用本发明配方腐蚀的多层膜电路镍层在40×显微镜下观察，线条侧壁光滑、陡直，无金属膜层内缩，无锯齿状凸起或内凹；腐蚀前后对比膜层附着力无明显变化，无膜层起翘、脱落等现象；经上百次腐蚀验证，线条质量良好，腐蚀过程容易控制，腐蚀工艺性较为稳定。

主权项

一种适合多层膜电路制作的镍光刻腐蚀液配方，其特征在于：包括氢氟酸、硝酸和去离子水；各组成部分的体积比如下：氢氟酸：硝酸：去离子水＝(0.8‑1.2)：(2.5‑3.5)：2。