显影方法和显影装置

摘要

本发明提供一种能够形成CD分布均匀性足够高的抗蚀剂的显影方法。本发明涉及的显影方法，其用于对基板表面上的曝光后的抗蚀剂膜进行显影来形成抗蚀剂图案，依序具有如下步骤：(A)向旋转的基板供给显影液的步骤；(B)使抗蚀剂膜与显影液反应的步骤；和(C)为了使抗蚀剂膜与显影液的反应停止而从抗蚀剂膜表面除去显影液的步骤，在(A)步骤中，使用接液喷嘴，该接液喷嘴具有显影液的排出口和从排出口在横向扩展且与抗蚀剂膜相对的面，并且在(C)步骤中，使除去了显影液的抗蚀剂膜表面的反应停止区域和与显影液的反应持续进行的抗蚀剂膜表面的反应进行区域的边界从抗蚀剂膜的中心部向周缘部移动。

主权项

一种显影方法，其对基板表面上的曝光后的抗蚀剂膜进行显影来形成抗蚀剂图案，所述显影方法的特征在于，依次包括：(A)通过向在被水平地保持的状态下旋转的所述基板供给显影液而使所述显影液遍布在所述抗蚀剂膜的表面上的步骤；(B)使所述抗蚀剂膜与所述显影液反应的步骤；和(C)为了使所述抗蚀剂膜与所述显影液的反应停止而从所述抗蚀剂膜的表面除去所述显影液的步骤，在所述(A)步骤中，使用接液喷嘴，该接液喷嘴具有所述显影液的排出口和从所述排出口在横向扩展并且与所述抗蚀剂膜相对配置的下端面，从所述排出口向由所述抗蚀剂膜的表面和所述下端面形成的间隙供给所述显影液，并且使所述接液喷嘴从进行旋转的所述基板的中心部向周缘部移动，在所述(C)步骤中，使除去了所述显影液的所述抗蚀剂膜表面的反应停止区域和与所述显影液的反应持续进行的所述抗蚀剂膜表面的反应进行区域的边界从所述抗蚀剂膜的中心部向周缘部移动。