发明名称 利用纳米气泡水的浸渍进行的设备清洗方法
摘要 提供一种设备清洗方法,在对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备、填充液的液体处理设备、或将所述设备连接的配管设备等设备进行固定清洗的清洗方法中,大幅提高与填充液相接的部位的清洗度,而且能够缩短清洗时间,能够减少清洗液等的实用的使用量。在对于向瓶、罐等容器填充饮料等的填充设备(4)、填充液的液体处理设备(3)、或将所述设备连接的配管设备(4p)等设备的液体通路进行固定清洗的清洗方法中,向所述设备输送含有纳米气泡的液体并静置浸渍规定时间。
申请公布号 CN102821879B 申请公布日期 2016.01.27
申请号 CN201180016194.9 申请日期 2011.08.18
申请人 三菱重工食品包装机械株式会社;吉泽稔 发明人 吉泽稔;伊藤靖史;青木浩一;德永慎一
分类号 B08B9/02(2006.01)I 主分类号 B08B9/02(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 高培培;车文
主权项 一种设备清洗方法,对于向容器填充填充液的填充设备、填充液的液体处理设备、或将所述填充设备及所述液体处理设备连接的配管设备的液体通路进行固定清洗,其中,所述设备清洗方法具备:液体输送工序,向所述液体通路输送含有纳米气泡的液体;及静置浸渍工序,在所述纳米气泡液体输送工序后,在所述液体通路内由所述液体充满的状态下,进行规定时间静置浸渍,所述液体输送工序及所述静置浸渍工序在用热水清洗所述液体通路的第一热水清洗工序之后且用酸清洗液清洗所述液体通路的酸清洗工序之前进行,在所述酸清洗工序之后,依次进行第二热水清洗工序、用苛性清洗液清洗所述液体通路的苛性清洗工序及第三热水清洗工序,在所述静置浸渍工序中,向含有所述纳米气泡的液体施加超声波振动。
地址 日本爱知县名古屋市