| 摘要 |
본 발명은 피처리 기판에 대하여 고압 유체를 이용한 처리를 행하는 처리 용기를 제공하며, 파티클의 발생을 억제하고, 처리 용기 내의 기밀성을 확보하는 것을 과제로 한다. 처리 챔버(2)의 반송구(31)를 둘러싸도록 시일 부재(62)를 설치하고, 덮개(7)에 의해 반송구(31)를 막고, 로크 플레이트(15)에 의해서 처리 챔버(2) 내의 압력에 의해 덮개(7)가 후퇴하는 것을 규제하면서, 처리 챔버(2) 내에서 웨이퍼(W)에 대하여 고압 유체를 이용한 건조 처리를 행한다. 건조 처리 중에, 상기 시일 부재(62)가 처리 챔버(2)의 내부 분위기에 의해 가압되어 덮개(7)측으로 압박되기 때문에, 상기 덮개(7)와 처리 챔버(2) 사이의 간극을 기밀하게 막을 수 있다. 또한 시일 부재(62)가 처리 챔버(2)나 덮개(7)에 대하여 슬라이드 이동하는 일이 없기 때문에, 파티클의 발생이 억제된다. |
