发明名称 横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管
摘要 本实用新型公开了一种横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管,包括p型基板、在所述p型基板上层形成的n-漂移层、在n-漂移层的正面形成阴极、双通道栅极和阳极、所述n-漂移层上的阴极与双通道栅极之间形成的n+阴极区、p+基层及p-基层,在所述双通道栅极与阳极之间有一层膜,形成n+浮空区与p-基层,该膜与阴极之间形成p+区与n+缓冲区。本实用新型公开了一种横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管,既能提升击穿电压,又能保持闩锁电流密度不变,并且几乎不产生回跳现象。
申请公布号 CN205004339U 申请公布日期 2016.01.27
申请号 CN201520773650.X 申请日期 2015.10.08
申请人 深圳市可易亚半导体科技有限公司 发明人 赵喜高
分类号 H01L29/74(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I 主分类号 H01L29/74(2006.01)I
代理机构 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 代理人 廉红果;温洁
主权项 一种横向沟槽电极双通道发射极关断晶闸管,其特征在于:包括p型基板、在所述p型基板上层形成的n‑漂移层、在n‑漂移层的正面形成阴极、双通道栅极和阳极、所述n‑漂移层上的阴极与双通道栅极之间形成的n+阴极区、p+基层及p‑基层,在所述双通道栅极与阳极之间有一层膜,形成n+浮空区与p‑基层,该膜与阴极之间形成p+区与n+缓冲区。
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