发明名称 EXPOSURE METHOD, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 노광 방법은, 투영 광학계 (PL) 와 액체 (1) 를 통하여 패턴의 이미지를 기판 상에 투영함으로써 기판을 노광할 때, 기판 상의 액체 접촉면에 형성되는 막부재 (SP) 에 따라서, 기판에 대하여 실시되는 액침 조건, 예를 들어, 액체 종류를 결정하는 것을 포함한다. 액체 종류는, 제 1 및 제 3 액체 공급부 (11, 21) 를 전환함으로써 선정된다. 상이한 포토레지스트층이 형성되는 기판 (P) 에 대하여, 액침 노광을 원활하게 행할 수 있다.
申请公布号 KR20160009710(A) 申请公布日期 2016.01.26
申请号 KR20167000800 申请日期 2004.05.24
申请人 NIKON CORPORATION 发明人 NAGASAKA HIROYUKI
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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