发明名称 solução metálica de formação de filme e método de formação de filme metálico
摘要 solução metálica de formação de filme e método de formação de filme metálico. a presente invenção refere-se a uma solução metálica de formação de filme para fornecer íons metálicos a uma membrana de eletrólito sólida na formação de filme. na formação de filme, a membrana de eletrólito sólida é disposta entre um anodo e um substrato, como um catodo, e a membrana de eletrólito sólida é colocada em contato com o substrato e uma tensão é estabelecida entre o anodo e o substrato para precipitar um metal em uma superfície do substrato a partir dos íons metálicos contidos na membrana de eletrólito sólida, de modo que um filme metálico do metal seja formado na superfície do substrato. a solução metálica de formação de filme contém um solvente e o metal dissolvido no solvente está em um estado iônico. uma concentração de íons de hidrogênio da solução metálica de formação de filme está dentro de uma faixa de 0 a 10-7,85 mol/l a 25 ºc.
申请公布号 BR102015017213(A2) 申请公布日期 2016.01.26
申请号 BR20151017213 申请日期 2015.07.17
申请人 TOYOTA JIDOSHA KABUSHIKI KAISHA 发明人 HIROSHI YANAGIMOTO;KENSUKE AKAMATSU;MOTOKI HIRAOKA;YUKI SATO
分类号 C25D3/12 主分类号 C25D3/12
代理机构 代理人
主权项
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