发明名称 FILM FORMING METHOD
摘要 성막 방법은, 상기 회전 테이블을 회전시키면서, 상기 분리 가스 공급부로부터 상기 분리 가스를 공급하여 상기 제1 처리 영역과 상기 제2 처리 영역을 분리하면서, 상기 제1 가스 공급부로부터 상기 제1 처리 영역으로 제1 반응 가스를 공급하는 동시에, 상기 제2 가스 공급부로부터 상기 제2 처리 영역으로, 상기 제1 반응 가스와 반응할 수 있는 제2 반응 가스를 공급하는 스텝과, 상기 회전 테이블을 회전시키면서, 상기 분리 가스 공급부로부터 상기 분리 가스를 공급하여 상기 제1 처리 영역과 상기 제2 처리 영역을 분리하면서, 상기 제1 가스 공급부로부터 반응 가스를 공급하는 일 없이, 상기 제2 가스 공급부로부터 상기 제2 처리 영역으로 상기 제2 반응 가스를 소정의 기간 공급하는 스텝을 포함한다.
申请公布号 KR101588083(B1) 申请公布日期 2016.01.25
申请号 KR20130067777 申请日期 2013.06.13
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 이케가와 히로아키;가미니시 마사히코;이세 요시노부;오가와 준
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
主权项
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