| 摘要 |
본 발명의 과제는 미세 패턴을 균일하게 전사 가능한 원통 기재, 원반, 및 원반의 제조 방법을 제공하는 것이다. 원통 형상의 석영 유리로 이루어지고, 내부 변형이 복굴절량으로 70㎚/㎝ 미만인 원통 기재(11)를 사용한다. 이 원통 기재(11)의 외주 표면에 레지스트층을 성막하고, 레지스트층에 잠상을 형성하고, 잠상이 형성된 레지스트층을 현상하고, 현상된 레지스트층의 패턴을 마스크로 하여 에칭하여 원통 기재(11)의 외주 표면에 복수 배열된 오목부 또는 볼록부를 포함하는 구조체(12)를 형성한다. |
