| 摘要 |
본 발명은 히터 보호용 프로세스 키트 및 이를 이용한 챔버 세정방법으로서, 히터를 둘러싸는 본체부와, 기판을 안착시키는 기판안착턱을 갖는 기판지지 키트와, 상기 기판지지 키트에 안착되어 상기 히터를 상기 챔버의 내부공간과 분리시키는 셔터 웨이퍼를 이용하여, 상기 챔버에 상기 셔터 웨이퍼를 공급하여 상기 기판지지키트에 안착시켜서 상기 히터와 상기 챔버의 세정공간을 분리하고, 상기 기판지지키트와 상기 히터 사이에 N가스를 공급하여 상기 세정가스가 상기 히터에 맞닿는 것을 차단한 후, 제 1 가스농도를 가지는 세정가스를 공급하고 제 1 파워로 제 1 세정시간동안 상기 기판지지키트의 상부면과 상기 챔버내부를 세정하여, 공정 챔버내에서 공정 완료후 챔버 내의 파티클을 세정할 때에 상기 기판지지키트 및 상기 셔터 웨이퍼에 의해 세정가스가 상기 히터를 식각하는 것을 방지할 수 있으므로, 챔버 내의 히터가 손상되지 않도록 보호하면서 챔버를 세정하는 것이 가능하다. |
