基于非牛顿流体的抛光系统

摘要

作系揭露一种基于非牛顿流体的抛光系统。抛光系统包含抛光工具装置、非牛顿流体辅助装置及控制装置。抛光工具装置用以带动一工件于容置有一非牛顿流体的一抛光容器中进行位移，且非牛顿流体中具有一磨料。非牛顿流体辅助装置用以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变非牛顿流体的黏度，以利用磨料对工件进行抛光。控制装置用以控制抛光工具装置使工件于抛光容器中进行位移。本创作藉此可对具有三维形状的工件抛光。

主权项

一种基于非牛顿流体的抛光系统，其包含： 一抛光工具装置，系配置以带动一工件于容置有一非牛顿流体的一抛光容器中进行位移，且该非牛顿流体中具有一磨料； 一非牛顿流体辅助装置，系配置以利用压力、速度、振动或超声波频率的变化，而改变该非牛顿流体的黏度，以利用该磨料对该工件进行抛光；以及 一控制装置，系配置以控制该抛光工具装置使该工件于该抛光容器中进行位移； 其中，当该非牛顿流体辅助装置运作时，该非牛顿流体的黏度增加，以具有近似半固体性质，而当该非牛顿流体辅助装置未运作时，该非牛顿流体迅速恢复为流动状态。