发明名称 |
感光化射线或放射线树脂组成物及使用该组成物之图案形成方法 |
摘要 |
一个具体实施例,一种感光化射线或放射线树脂组成物包含(A)如下通式(I)化合物中之任一者及(B)含有具有比酚的电离电位值更低的电离电位值之化合物残基(c)且当藉酸作用时,于硷显影剂中之溶解度增高之树脂, |
申请公布号 |
TWI518448 |
申请公布日期 |
2016.01.21 |
申请号 |
TW099107194 |
申请日期 |
2010.03.12 |
申请人 |
富士软片股份有限公司 |
发明人 |
椿英明;白川浩司;八尾忠辉;土桥彻;土村智孝 |
分类号 |
G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);C07C309/31(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂 |
主权项 |
一种感光化射线或放射线树脂组成物,其包含:(A)如下通式(I)化合物中之任一者及(B)于硷显影剂中之溶解度因酸之作用增高之树脂,其中该树脂(B)含有一重复单元(D),该重复单元(D)具有:至少一个基团,其中酚系羟基或羧酸基之氢原子已经由可藉酸作用去除之基团所置换;具有比酚的电离电位值更低的电离电位值之化合物的残基(c);以及至少一重复单元,其系以下述通式(II)表示作为重复单元(D),
其中Ar表示具有Cy基及视需要可具有其它额外取代基之芳香环,n为2或2以上之整数,Cy表示直接键结于以Ar表示之芳香族环上之具有经取代之或未经取代之环脂族基之一基团,但限制条件为多个Cy基可彼此相同或相异,及M+表示有机鎓离子,
其中R1表示氢原子或甲基,R2及R3各自分别表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或芳烷基,W表示二价有机基,X表示如下通式(III)基团中之任一者,且-O-X为具有电离电位值比酚之电离电位值更低的H-O-X的残基(c),及n为1至4之整数,但限制条件为当n为2至4之整数时,多个W基可彼此相同或相异,-L-Y (III)其中L表示单键或伸烷基,及Y为选自于如下通式(IV)之基团中之一基团,
其中
R4或各个R4分别表示含1至6个碳原子之线性或分支烷基或烷氧基,n1为0至3之整数,n2为0至7之整数,n3为0至9之整数,n4为0至9之整数,n5为0至9之整数,n6为0至3之整数,及n7为0至3之整数,及*表示与L之连接位置。
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地址 |
日本 |