| 主权项 |
一种阴极，其特征为，其系成膜装置所使用者，且包含：靶材，其系设置于成膜空间内，且包含具第1主面、位于前述第1主面之相反侧之第2主面、第1侧面、及位于前述第1侧面之相反侧之第2侧面之背板、配置于前述第1主面之第1母材、配置于前述第2主面之第2母材、及从前述第1侧面向前述第2侧面贯通前述背板之旋转轴；控制部，其系使前述旋转轴旋转，经由前述旋转轴，对前述靶材供给溅镀使用之电力；及磁场产生部，其系以于前述第1母材或前述第2母材产生泄漏磁通之方式，设置于靠近自前述成膜空间离隔之前述背板之面之位置，且位于前述背板之外部；其中前述磁场产生部系于前述第1母材产生泄漏磁通时，配置于靠近前述第2母材之位置，于前述第2母材产生泄漏磁通时，配置于靠近前述第1母材之位置。
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