发明名称 Halbleiterbauelementanordnung und Halbleiterbauelementanordnung mit einem lateralen Halbleiterbauelement
摘要 <p>Halbleiterbauelementanordnung, die aufweist: eine erste und eine zweite Halbleiterschicht (20, 40), die benachbart zueinander angeordnet sind und die durch eine Dielektrikumsschicht (30) voneinander getrennt sind und von denen wenigstens die erste Halbleiterschicht (20) ein polykristallines Halbleitermaterial, ein amorphes Halbleitermaterial oder ein organischen Halbleitermaterial aufweist; in der ersten Halbleiterschicht (20): eine Sourcezone (21), eine Bodyzone (22), eine Driftzone (23) und eine Drainzone (24); in der zweiten Halbleiterschicht (40): eine Driftsteuerzone (42), die benachbart zu der Driftzone (23) angeordnet ist, die an einem ersten lateralen Ende einen Ansteueranschluss (43) zum Anlegen eines Ansteuerpotenzials aufweist und die an einem zweiten lateralen Ende über ein Gleichrichterelement (51) an die Drainzone (24) gekoppelt ist; eine Gateelektrode (61), die benachbart zu der Bodyzone (22) angeordnet ist und die durch eine Gatedielektrikumsschicht (62) dielektrisch gegenüber der Bodyzone (22) isoliert ist.</p>
申请公布号 DE102010003759(B4) 申请公布日期 2016.01.21
申请号 DE20101003759 申请日期 2010.04.08
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AUSTRIA AG 发明人 WEYERS, JOACHIM;MAUDER, ANTON, DR.;HIRLER, FRANZ, DR.;KÜPPER, PAUL, DR.
分类号 H01L29/78;H01L29/739;H01L51/10 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
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