発光ダイオードディスプレイの製造方法および発光ダイオードディスプレイ

摘要

【課題】高品質のマイクロ画素化発光ダイオードディスプレイを製造可能な方法を提供する。【解決手段】本方法は、Ａ）成長基板（２）を設けるステップと；Ｂ）基板表面（２０）に直接または間接的に緩衝層（４）を形成するステップと；Ｃ）緩衝層（４）上または緩衝層（４）に複数の個別の成長点（４５）を形成するステップと；Ｄ）成長点（４５）を起点として個別の放射活性島部（５）を形成するステップであって、島部（５）は、それぞれ、少なくとも１つの活性領域（５５）を有する無機半導体積層体（５０）を含み、島部の基板表面（２０）の上面視における平均径が、５０ｎｍ〜２０μｍ（両端値を含む）である、ステップと、Ｅ）島部（５）を電気的に制御するために島部（５）をトランジスタ（６）に接続するステップと、を含む。【選択図】図１Ｊ