Herstellung von Mikrofluidchips, die Elektroden auf einer Höhe mit Mikrokanalwänden aufweisen

摘要

Die vorliegende Erfindung betrifft vor allem ein Verfahren zur Herstellung eines Mikrofluidchips (1), aufweisend: Bereitstellen (S1 bis 87) eines Substrats (10), von welchem eine Stirnfläche (F) von einer elektrisch isolierenden Schicht (30) bedeckt ist; Erhalten (S8) einer Resistschicht (40), welche einen oder mehrere ausgewählte Abschnitte (P1) der elektrisch isolierenden Schicht (30) bedeckt, wobei zumindest ein verbleibender Abschnitt (P2) der elektrisch isolierenden Schicht (30) nicht von der Resistschicht bedeckt ist; partielles Ätzen (S9) einer Fläche des verbleibenden Abschnitts (P2) der elektrisch isolierenden Schicht (30) mit einem Nassätzmittel (E), um eine Aussparung (40r) und/oder eine Unterschneidung (40u) unter der Resistschicht (40) zu erzeugen; Abscheiden (S10) einer elektrisch leitfähigen Schicht (50) auf der geätzten Fläche (35), so dass die elektrisch leitfähige Schicht die erzeugte Aussparung (40r) und/oder die Unterschneidung (40u) erreicht; und Entfernen (S11) der Resistschicht (40), um einen Abschnitt (P1) der elektrisch isolierenden Schicht angrenzend an einen zusammenhängenden Abschnitt (P2) der elektrisch leitfähigen Schicht (50) freizulegen. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner Mikrofluidchips, die durch solche Verfahren zu erhalten sind.