| 摘要 |
この巻き取り成膜装置は、第一前駆体が導入される第一真空気室と、第二前駆体が導入される第二真空気室と、前記第一前駆体及び前記第二前駆体をパージするために用いられるパージガスが導入される第三真空気室と、巻き取り可能な基材を、前記第一真空気室、前記第二真空気室、及び前記第三真空気室に搬送し、前記基材を前記基材の厚み方向において挟持し第１ローラ及び第２ローラを有し前記第１ローラ及び前記第２ローラのうち少なくとも一方の外周面に凹凸形状が形成されている一対のローラ対を有する搬送ローラ部と、を備え、前記搬送ローラ部を用いて、前記基材を前記第一真空気室及び前記第二真空気室を往復させることで、前記基材の表面に原子層を堆積させて原子層堆積膜を形成する。 |
