发明名称 |
ミクロ構造の非対称性を測定する方法および装置、位置測定方法、位置測定装置、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
摘要 |
リソグラフィ装置は、周期構造を含むアライメントターゲットの位置を決定するように構成されたセンサ、例えば自己参照干渉計を含むアライメントセンサを含む。照明光学システムは、異なる色および偏光の放射の焦点を、構造をスキャンするスポットに合わせる。多数の位置依存信号は、多数の候補位置測定値を得るために検出および処理される。非対称性センサは、周期構造によって回折される放射の正の次数および負の次数の構成比を受け取って周期構造における非対称性の測定値を得る。非対称性測定値を用いてセンサによって読み取られる位置の精度を高める。非対称性についての追加の情報は、多数の位置依存信号を比較することによって得ることができ、また、非対称性センサ結果と組み合わせて精度をさらに高めることもできる。【選択図】図11 |
申请公布号 |
JP2016502134(A) |
申请公布日期 |
2016.01.21 |
申请号 |
JP20150540149 |
申请日期 |
2013.11.04 |
申请人 |
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. |
发明人 |
ティネマンズ,パトリシウス;デン ボーフ,アリー,ジェフリー;マタイセン,サイモン,ガイスベルト,ヨセフス |
分类号 |
G03F9/00;G01B11/00;G03F7/207 |
主分类号 |
G03F9/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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