修正布局图案的方法以及制作光罩的方法

摘要

修正布局图案的方法包括下列步骤。提供一第一布局图案以及一第二布局图案。第一布局图案包括一第一导线图案，第二布局图案包括至少一接触孔图案，且接触孔图案与第一导线图案至少部分重叠。提供一对位误差值。藉由一电脑系统检测接触孔图案与第一导线图案间之距离是否小于对位误差值。自接触孔图案与第一导线图案间距离小于对位误差值之一对边扩大接触孔图案以取得一第一修正后接触孔图案。

主权项

一种修正布局图案的方法，包括：提供一第一布局图案与一第二布局图案，其中该第一布局图案包括一第一导线图案，该第二布局图案包括至少一接触孔图案，且该接触孔图案与该第一导线图案至少部分重叠；提供一对位误差值(mis-alignment value)；藉由一电脑系统检测该接触孔图案与该第一导线图案间之距离是否小于该对位误差值；以及自该接触孔图案与该第一导线图案间距离小于该对位误差值之一对边扩大该接触孔图案以取得一第一修正后接触孔图案。