| 发明名称 |
曝光装置、曝光方法、及元件制造方法 |
| 摘要 |
一种曝光方法，可以所希望的状态进行液体的供给及回收，且可抑制投影至基板上的图案像的劣化。曝光装置具备喷嘴构件(70)，及防振机构(60)。喷嘴构件(70)具有供给液体(LQ)的供给口(12)与回收液体(LQ)的回收口(22)。防振机构(60)是相对于主柱(1)的下侧段部(7)防振支撑着喷嘴构件(70)。
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| 申请公布号 |
TWI518744 |
申请公布日期 |
2016.01.21 |
| 申请号 |
TW101149735 |
申请日期 |
2005.03.23 |
| 申请人 |
尼康股份有限公司 |
发明人 |
原英明 |
| 分类号 |
H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03B27/42(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
阎启泰;林景郁 |
| 主权项 |
一种曝光装置，系透过光学系统与液体并藉由将曝光光照射于基板而使该基板曝光，其特征在于，具备：第1喷嘴构件，具有该曝光光通过之开口，且具有供给液体之供给口；第2喷嘴构件，与该第1喷嘴构件分开设置，具有回收从该供给口供给之液体之回收口；以及驱动装置，使该第1喷嘴构件与该第2喷嘴构件之至少一方动作。
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| 地址 |
日本 |
