感光性聚矽氧烷组成物及其应用

摘要

明系有关一种感光性聚矽氧烷组成物及由该感光性聚矽氧烷组成物所形成之薄膜，其用于形成TFT基板用平坦化膜、层间绝缘膜或光波导路之芯材或包覆材之保护膜，该薄膜具有耐化性佳之特性。该感光性聚矽氧烷组成物包含：聚矽氧烷聚合物(A)、邻萘醌二叠氮化合物(B)、热硷产生剂(C)以及溶剂(D)。

主权项

一种感光性聚矽氧烷组成物，包含：聚矽氧烷聚合物(A)；邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)；热硷产生剂(C)；以及溶剂(D)；其中该热硷产生剂(C)，包含下列结构式(1)所示之化合物或其盐类衍生物及/或下列结构式(2)所示之化合物及/或下列结构式(3)所示之化合物：

其中：m表示2至6之整数；R1、R2各自独立表示氢原子、碳数1至8之烷基、碳数1至6之可具有取代基之羟烷基、或碳数2至12之二烷基胺基；

其中：R3、R4、R5及R6各自独立表示氢原子、碳数1至8之可具有取代基之烷基、碳数3至8之可具有取代基之环烷基、碳数1至8之
可具有取代基之烷氧基、碳数2至8之可具有取代基之烯基、碳数2至8之可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之杂环基；R7及R8各自独立表示氢原子、碳数1至8之可具有取代基之烷基、碳数3至8之可具有取代基之环烷基、碳数1至8之可具有取代基之烷氧基、碳数2至8之可具有取代基之烯基、碳数2至8之可具有取代基之炔基、可具有取代基之芳基或可具有取代基之杂环基、或彼此结合形成可具有取代基之单环；或彼此结合形成可具有取代基之多环；R9表示碳数1至12之可具有取代基之烷基、碳数3至12之可具有取代基之环烷基、碳数2至12之可具有取代基之烯基、碳数2至12之可具有取代基之炔基、可具有碳数之1至3之烷基取代基之芳基、可具有碳数之1至3之烷基取代基之芳烷基或可具有取代基之杂环基，但R9之碳原子总数为12以下；

其中：R3、R4、R5及、R6、R7及R8之定义如(2)结构式所示；R10表示碳数1至12之可具有取代基之亚烷基、碳数3至12之可具有取代基之亚环烷基、碳数2至12之可具有取代基之亚烯基、碳数2至12之可具有取代基之亚炔基、可具有碳数之1至3之烷基取代基之亚芳基、可具有碳数之1至3之烷基取代基之亚芳烷基
或可具有取代基之杂环基，但R10之碳原子总数为12以下；其中该聚矽氧烷聚合物(A)为含有下记结构式(4)之矽烷单体组份经加水分解及部份缩合而得之共聚物；Si(Ra)w(ORb)4-w 结构式(4)其中：至少一个Ra表示经酸酐基取代之烷基、经环氧基取代之烷基及/或经环氧基取代之烷氧基，且其余Ra表示氢原子、碳数1至10之烷基、碳数2至10之烯基、碳数6至15之芳基，可各自相同亦可不同；Rb表示氢原子、碳数1至6之烷基、碳数1至6之醯基、碳数6至15之芳基，可各自相同亦可不同；w表示0至3之整数；其中基于该矽烷单体之使用量总和为1莫耳，该含酸酐基或环氧基之矽烷单体之使用量为0.02至0.09莫耳。