面内斜入射回折を用いた表面マッピングのための装置、および、方法

摘要

結晶試料の表面を検査するための装置は、位置感知検出器を用いて面内斜入射回折を使用する。Ｘ線源は、試料の拡張された領域を照射し、適宜な格子方位を有する結晶部分について、伸張された回折信号が生成される。該回折信号がそれら他の領域に対応するように、試料の相対位置とＸ線ビームは、試料の異なる領域を照射するように変化させることができる。試料前面に渡って走査することによって、試料表面の空間プロファイルが生成される。該システムは、試料表面上での、結晶境界、欠陥、又は減衰物質の存在の場所を定めるために使用される。