发明名称 Vakuumanlage, insbesondere Plasmaanlage, mit einem rundum geschlossenen Kammerstrangpressprofil
摘要 Die Erfindung betrifft eine Vakuumanlage (10), insbesondere in Form einer Plasmaanlage. Die Vakuumanlage (10) weist eine Vakuumkammer (12) auf. Die Seitenwände der Vakuumkammer (12) sind in Form eines durchgängig geschlossenen Kammerstrangpressprofils ausgebildet. Eine erste Stirnseite des Kammerstrangpressprofils ist bevorzugt mit einer Platte verschlossen. Eine zweite Stirnseite des Kammerstrangpressprofils, die der ersten Stirnseite gegenüberliegt, weist eine reversibel öffen- und schließbare Tür (16) auf. Die Tür (16) ist bevorzugt durch zumindest ein Scharnier (18, 20) schwenkbar an dem Kammerstrangpressprofil befestigt. Die quer zur Längsachse des Kammerstrangpressprofils vollständig geschlossenen Seitenwände ermöglichen eine einfache und kostengünstige Fertigung der Vakuumkammer (12). Bevorzugt ist die Vakuumkammer (12) zumindest teilweise in einem Gehäuse (14) aufgenommen, das zumindest teilweise ebenfalls in Form eines Strangpressprofils ausgebildet ist.
申请公布号 DE102014213942(A1) 申请公布日期 2016.01.21
申请号 DE201410213942 申请日期 2014.07.17
申请人 DIENER, CHRISTOF-HERBERT 发明人 DIENER, CHRISTOF-HERBERT
分类号 H01J37/16 主分类号 H01J37/16
代理机构 代理人
主权项
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