气相蚀刻设备

摘要

明提供一种气相蚀刻设备，包括具有内部空间的处理腔室，且该内部空间系由具有开放的上部部分之腔体以及具有开放的下部部分之上盖形成，且上盖系可拆卸地连接于腔体之上部部分、设置于内部空间以藉由驱动单元升高或降低的基板基座，以及设置于基板基座上以覆盖基板基座和处理腔室之外壁之间的空间的环板，其中，环板之设置使得内部空间被分隔为位于基板基座之上的处理区域以及位于基板基座之下的排放区域。除此之外，经环板分隔之处理区域系被上盖包围，而排放区域系被腔体包围。

主权项

一种气相蚀刻设备，包括：一处理腔室，具有一内部空间，该内部空间系由具有一开放的上部部分之一腔体以及具有一开放的下部部分之上盖形成，该上盖系可拆卸地连接于该腔体之一上部部分，其中，该处理腔室更进一步包括有一基板载入口，该基板载入口位于该腔体之一侧以提供一通道以载入/卸载一基板进/出该处理腔室之该内部空间；一基板基座，设置于该内部空间以藉由一驱动单元升高或降低；以及一环板，设置于该基板基座上以覆盖该基板基座和该处理腔室之一外壁之间的空间，以使得该内部空间被分隔为位于该基板基座之上的一处理区域以及位于该基板基座之下的一排放区域；其中，该环板更进一步包括有一盖板，该盖板垂直地从该环板之一边缘延伸且与该基板基座之上升与下降的操作联结，以开启或关闭该基板载入口之该通道，以使得该基板载入口之该通道相对于该处理腔室之该内部空间被分隔成一独立空间；以及经该环板分隔之该处理区域系被该上盖包围，且该排放区域系被该腔体包围。