大面积奈米图案化之方法与设备

摘要

明之实施例系关于用于奈米图案化大面积基材之方法与设备，其中一可旋转罩幕被用来将一辐射敏感材料予以显像。典型地，可旋转罩幕包含一圆筒。奈米图案化技术利用近场光微影，其中用来图案化基材之罩幕系与基材动态接触。近场光微影可以使用弹性相位移罩幕，或可以使用表面电浆子技术，其中旋转的圆筒表面包含金属奈米孔洞或奈米微粒。

主权项

一种近场奈米微影之方法，其包含：a)提供一基材，该基材在基材表面上具有一辐射敏感层；b)提供一可旋转罩幕，该可旋转罩幕在该可旋转罩幕之外表面上具有一奈米图案；c)接触该奈米图案与该基材表面上之该辐射敏感层；d)在该辐射敏感层上方旋转该可旋转罩幕的同时，经由该奈米图案散布辐射，藉此在该辐射敏感层中建立一图像，其中该图像具有介于小于1μm至约1nm范围内的特征尺寸。