发明名称 电沉积强化低熔点金属熔射模的方法
摘要 本发明公开一种电沉积强化低熔点金属熔射模的方法,先对低熔点金属熔射模进行除油、除锈和活化前处理,然后将该低熔点金属熔射模放入含纳米陶瓷粉末的电沉积槽中进行电沉积。本发明电沉积强化低熔点金属熔射模的方法,既可以发挥熔射制模速度快、效率高的优点,又可以在低熔点金属熔射模上形成硬度高、耐磨性好的金属陶瓷复合涂层,从而提高低熔点金属熔射模的表面硬度,使其具有高硬度的工作层。
申请公布号 CN102154676B 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201110095031.6 申请日期 2011.04.14
申请人 华侨大学 发明人 曾好平;李洪友;张认成;石育英
分类号 C25D15/00(2006.01)I;C25D5/18(2006.01)I;C25D5/08(2006.01)I;C25D5/20(2006.01)I;C25D5/34(2006.01)I 主分类号 C25D15/00(2006.01)I
代理机构 泉州市文华专利代理有限公司 35205 代理人 张梧邨
主权项 一种电沉积强化低熔点金属熔射模的方法,其特征在于:先对低熔点金属熔射模进行除油、除锈和活化前处理,然后将该低熔点金属熔射模放入含纳米陶瓷粉末的电沉积槽中进行电沉积;所述纳米陶瓷粉末为三氧化二铝(Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>)、氧化锆(ZrO<sub>2</sub>)和氮化硅中的多种;所述电沉积步骤中,用双向高频脉冲电源进行电沉积,并对电沉积液进行超声搅拌;所述低熔点金属熔射模上的电沉积层的厚度为0.01~0.05mm。
地址 362000 福建省泉州市丰泽区城东华侨大学