发明名称 |
多次可编程存储单元及其形成方法 |
摘要 |
一种器件,包括有源区和耦合电容器。电容器包括第一浮置栅极,作为耦合电容器的电容器上极板,以及掺杂的半导体区,作为耦合电容器的电容器下极板。掺杂半导体区包括位于有源区的表面处的表面部,以及低于表面部的底面的侧壁部。侧壁部位于有源区的侧壁上。电容器绝缘体设置在电容器上极板和电容器下极板之间。电容器绝缘体包括上部,以及低于上部的底面的侧壁部。本发明还提供了多次可编程存储单元及其形成方法。 |
申请公布号 |
CN103367368B |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201310003937.X |
申请日期 |
2013.01.06 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
傅景鸿;柯钧耀;简铎欣;许庭祯 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I;G11C16/04(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 |
代理人 |
章社杲;孙征 |
主权项 |
一种多次可编程存储单元器件,包括:第一有源区,包括第一导电类型的阱区;浅沟槽隔离(STI)区,与所述第一有源区相邻;以及耦合电容器,包括:第一浮置栅极,作为所述耦合电容器的电容器上极板;掺杂半导体区,作为所述耦合电容器的电容器下极板,其中,所述掺杂半导体区为第二导电类型,所述第二导电类型与所述第一导电类型相反,所述掺杂半导体区包括:顶面部,位于所述第一有源区的顶面处,其中所述顶面部包括与所述阱区的所述顶面接触的底面;和底面部,位于所述阱区中并且位于部分所述浅沟槽隔离区下方,所述底面部包括与所述浅沟槽隔离区的底面相接触的顶面;侧壁部,连接所述顶面部和所述底面部,且低于所述顶面部的底面,其中,所述侧壁部与所述阱区的侧壁相接触;以及电容器绝缘体,位于所述电容器上极板和所述电容器下极板之间,其中,所述电容器绝缘体包括上部以及低于所述上部的底面的侧壁部。 |
地址 |
中国台湾新竹 |