处理基板的装置、系统及方法

摘要

提供了一种处理基板的装置、系统及方法，且更特别地提供一种具有簇结构的基板处理装置、一种基板处理系统以及一种使用所述基板处理系统的基板处理方法。所述基板处理装置包括：装载场，容纳基板的容器安装在所述装载场上；处理所述基板的多个处理模块；设置在所述装载场与所述处理模块之间并且在所述容器与所述处理模块之间传送所述基板的传送模块；以及设置在所述处理模块中的相邻的处理模块之间且提供用于在所述相邻的处理模块之间运送所述基板的空间的缓冲室。

主权项

一种基板处理装置，包括：装载场，容纳基板的容器安装在所述装载场上；处理所述基板的多个处理模块，其中每个所述处理模块包括：传送室，在设置在所述传送室周围的室之间传送所述基板；传送模块，设置在所述装载场与所述处理模块之间并且在所述容器与所述处理模块之间传送所述基板；以及缓冲室，设置在所述处理模块中的相邻的处理模块之间并且提供用于在所述相邻的处理模块之间运送所述基板的空间以及用于对所述基板执行工艺的装置设备，其中所述缓冲室具体设置在所述相邻的处理模块的所述传送室之间，并且所述缓冲室包括竖直堆叠的多个壳体。