一种磁控溅射靶

摘要

本实用新型属于超高真空设备的薄膜生长领域，特别涉及一种磁控溅射靶。该磁控溅射靶的溅射靶主体内设有高压室，高压室的一端连接样品夹持装置，样品夹持装置背面腔体内安装有内磁石和外磁石，内磁石套装于外磁石内，内磁石和外磁石之间设置有冷却装置，冷却装置上连接有高压线。本实用新型可通过调整施加电压的大小来控制氩原子电离的速率，使得氩离子电离的情况易于掌握，不会出现实验不可控的情况，对实验者的操作要求降低到了最低，磁场控制精准，对腔体以及外部环境没有过多要求，体积小巧，受热影响小，与驱动器结合使用灵活性好。

主权项

一种磁控溅射靶，其特征在于：溅射靶主体（2）内设有高压室，高压室的一端连接样品夹持装置，样品夹持装置背面腔体内安装有内磁石（13）和外磁石（12），内磁石（13）套装于外磁石（12）内，内磁石（13）和外磁石（12）之间设置有冷却装置，冷却装置上连接有高压线。