| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明构思提供了一种基板处理装置，所述装置包括：处理容器，所述处理容器的顶端是开放的；基板支撑单元，所述基板支撑单元放置于处理容器中以支撑基板；处理液供应单元，所述处理液供应单元将处理液供应至放置于基板支撑单元上的基板；以及加热单元，所述加热单元放置于基板支撑单元中以加热基板。所述加热单元包括：加热元件和反射元件，所述反射元件将来自加热元件的热量向上反射。 | ||
| 申请公布号 | CN105261579A | 申请公布日期 | 2016.01.20 |
| 申请号 | CN201510409339.1 | 申请日期 | 2015.07.13 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 崔重奉;金性洙;许瓒宁;权五珍 |
| 分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：处理容器，所述处理容器的顶端是开放的；基板支撑单元，所述基板支撑单元放置于所述处理容器中以支撑基板；处理液供应单元，所述处理液供应单元将处理液供应至放置于所述基板支撑单元上的基板；加热单元，所述加热单元放置于所述基板支撑单元中以加热基板，其中，所述加热单元包括：加热元件；和反射元件，所述反射元件将来自所述加热元件的热量向上反射。 | ||
| 地址 | 韩国忠淸南道天安市 | ||