包含大粒度热解法二氧化硅的抗反射膜

摘要

本发明描述了抗反射膜，所述抗反射膜包括透光性基底和设置在所述透光性基底上的低折射率层。所述低折射率层包含可聚合树脂组合物的反应产物，所述可聚合树脂组合物包含至少20重量%的热解法二氧化硅。在一个实施例中，所述可聚合树脂为烯键式不饱和的。在一优选实施例中，从透光性基底界面到相对的多孔表面，所述低折射率层的孔隙度增大。

主权项

一种抗反射膜，包括透光性基底和设置在所述透光性基底上的界面处的低折射率层，其中所述低折射率层包含可聚合树脂组合物的反应产物，所述可聚合树脂组合物包含至少50重量％的低折射率粒子，所述至少50重量％的低折射率粒子涵盖至少20重量％的热解法二氧化硅，并且所述低折射率层为单层，并且从透光性基底界面到相对的多孔表面，所述低折射率层的孔隙度增大。