发明名称 化学气相沉积或外延层生长反应器及其基片托盘和支撑轴
摘要 一种化学气相沉积或外延层生长反应器,所述反应器内设置至少一基片托盘及其支撑轴,所述基片托盘包括一第一表面和一第二表面,所述基片托盘的第二表面设置有至少一个向内凹陷的凹进部;所述支撑轴包括:主轴部;与所述主轴部的一端相连接、并沿所述主轴部外围向外延伸开来的支撑部,所述支撑部包括一延展面;以及与所述主轴部相连接、并沿着与所述主轴部相反的方向延伸一高度的插接部;所述延展面外围设置一支撑台,所述支撑台包括一支撑面,所述基片托盘的第二表面至少部分地与所述支撑台的支撑面接触,以实现支撑轴对基片托盘的支撑。所述支撑轴可以带动基片托盘实现平稳快速转动。
申请公布号 CN204982132U 申请公布日期 2016.01.20
申请号 CN201520681445.0 申请日期 2015.09.06
申请人 中微半导体设备(上海)有限公司 发明人 姜勇;郑振宇
分类号 C30B25/12(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I 主分类号 C30B25/12(2006.01)I
代理机构 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人 徐雯琼;张静洁
主权项 一种用于化学气相沉积或外延层生长反应器内的支撑轴,用以支撑基片托盘并带动其旋转,其特征在于:所述支撑轴包括:主轴部;与所述主轴部的一端相连接、并沿所述主轴部外围向外延伸开来的支撑部,所述支撑部包括一延展面;以及与所述主轴部相连接、并沿着所述延展面向与所述主轴部反方向延伸一高度的插接部;所述延展面上方环绕所述插接部设置一个或多个支撑台,所述支撑台包括支撑面用以支撑基片托盘,所述支撑面高于所述延展面一段距离。
地址 201201 上海市浦东新区金桥出口加工区(南区)泰华路188号