| 发明名称 | 一种用于抛光含钛基材的抛光浆料 | ||
| 摘要 | 本发明一种用于抛光含钛基材的抛光浆料包括一种或多种氨基酸、去离子水和研磨颗粒；所述抛光浆料用于抛光含钛的基材。采用本发明一种用于抛光含钛基材的抛光浆料抛光含钛的基材时具有较高的钛/氮化钛的去除速率。 | ||
| 申请公布号 | CN102533122B | 申请公布日期 | 2016.01.20 |
| 申请号 | CN201010609152.3 | 申请日期 | 2010.12.28 |
| 申请人 | 安集微电子（上海）有限公司 | 发明人 | 张建;荆建芬;蔡鑫元 |
| 分类号 | H01L21/02(2006.01)I;C09G1/02(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人 | 李佳铭 |
| 主权项 | 氨基酸在提高钛/氮化钛去除速率中的应用，其中所述氨基酸被加入抛光浆料中，且所述抛光浆料由一种或多种氨基酸、去离子水和研磨颗粒组成，其中所述氨基酸为甘氨酸、丙氨酸、缬氨酸、亮氨酸、苯丙氨酸、酪氨酸、色氨酸、赖氨酸、精氨酸、组氨酸、天冬氨酸、谷氨酸、苏氨酸、脯氨酸、胱氨酸、天冬酰胺，或谷氨酰胺中的一种或几种混合。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区龙东大道3000号浦东高科技园区5号楼613 | ||