发明名称 | 模数转换装置及模数转换方法 | ||
摘要 | 本发明涉及半导体集成电路及其制造技术领域,公开了一种模数转换装置及模数转换方法。该模数转换装置包括:数据采样保持单元,用于进行数据采样,得到模拟电压信号,并对模拟电压信号进行存储;量化单元,用于数据采样保持单元输出的模拟电压信号进行量化;编码单元,用于对量化单元输出的数据进行编码,得到数字信号;所述数据采样保持单元包括阻变存储器。本发明利用阻变存储器实现模数转换过程中的数据存储(或称为保持),实验表明,数据保持时间可以长达10年,因此能够保证数据的可靠性,从而也保证了模数转换装置的工作可靠性。另外,本发明的装置结构简单、成本低。 | ||
申请公布号 | CN102931993B | 申请公布日期 | 2016.01.20 |
申请号 | CN201210460723.0 | 申请日期 | 2012.11.15 |
申请人 | 北京大学 | 发明人 | 康晋锋;刘睿;陈冰;张飞飞;刘力锋;刘晓彦 |
分类号 | H03M1/12(2006.01)I | 主分类号 | H03M1/12(2006.01)I |
代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
主权项 | 一种模数转换装置,其特征在于,包括:数据采样保持单元,用于进行数据采样,得到模拟电压信号,并对模拟电压信号进行存储;量化单元,用于数据采样保持单元输出的模拟电压信号进行量化;编码单元,用于对量化单元输出的数据进行编码,得到数字信号;其中,所述数据采样保持单元包括阻变存储器;其中,所述数据采样保持单元还包括与所述阻变存储器连接的MOS器件;其中,所述阻变存储器包括第一导电层、金属氧化物层以及第二导电层,所述金属氧化物层位于所述第一导电层与第二导电层之间,且第一导电层、金属氧化物层以及第二导电层依次覆于所述MOS器件的漏端;其中,所述第一导电层或第二导电层为金属;其中,所述金属氧化物层为HfO<sub>x</sub>、TiO<sub>x</sub>、WO<sub>x</sub>、NiO<sub>x</sub>、ZrO<sub>x</sub>和Ta<sub>x</sub>O<sub>x</sub>中的一种,x为正整数;其中,所述第一导电层的厚度为5~100nm;其中,所述金属氧化物层的厚度为3~30nm;其中,所述量化单元为电流比较器。 | ||
地址 | 100871 北京市海淀区颐和园路5号 |