发明名称 |
一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置 |
摘要 |
本实用新型公开了一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置包括:过滤装置本体,所述过滤装置本体上设置有进气口、出气口和排气口,所述进气口与分子泵连接,所述出气口与机械泵连接,过滤装置本体内部设置有过滤腔,所述过滤腔中靠近进气口装有变色硅胶,靠近出气口装有活性炭,过滤腔中安装有加热源。本装置可同时除去来自炉腔和空气中的水分子以及来自机械泵产生的油分子和其他杂质。保护了分子泵和机械泵不被污染,延长了使用寿命;增加了单晶生长室内气氛的纯净度,提高单晶生长质量。 |
申请公布号 |
CN204973470U |
申请公布日期 |
2016.01.20 |
申请号 |
CN201520505895.4 |
申请日期 |
2015.07.14 |
申请人 |
北京世纪金光半导体有限公司 |
发明人 |
靳丽婕;张云伟 |
分类号 |
B01D53/04(2006.01)I;B01D46/00(2006.01)I;B01D53/26(2006.01)I |
主分类号 |
B01D53/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 |
代理人 |
尹振启 |
主权项 |
一种用于单晶炉真空系统的气体过滤装置,其特征在于,该气体过滤装置包括:过滤装置本体,所述过滤装置本体上设置有进气口、出气口和排气口,所述进气口与分子泵连接,所述出气口与机械泵连接,过滤装置本体内部设置有过滤腔,所述过滤腔中靠近进气口装有变色硅胶,靠近出气口装有活性炭,过滤腔中安装有加热源。 |
地址 |
101111 北京市通州区北京经济技术开发区通惠干渠路17号 |